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      光阻，稱為光阻劑，是一個(gè)用在許多任務(wù)業(yè)制程上的光敏材料。像是光刻技術(shù)，可以在材料表面刻上一個(gè)圖案的被覆層。
　　光阻有兩種，正向光阻(positive photoresist)和負(fù)向光阻(negative photoresist)正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會溶于光阻顯影液，而沒有照到光的部份不會溶于光阻顯影液。
　　負(fù)向光阻是光阻的一種，其照到光的部分不會溶于光阻顯影液，而沒有照到光的部份會溶于光阻顯影液。
　　正型光阻劑及負(fù)型光阻劑主要是應(yīng)用在LED芯片制造的金屬電極蒸鍍Lift-off制程中，由于LED電極所使用的金屬材料不易經(jīng)由蝕刻的方式制作電路圖形，所以利用拔起（Lift-off）微影制程，得到突起的（Overhang）光阻圖形，使金屬在蒸鍍過程中不會連續(xù)性滿布在光阻劑上，再用去光阻劑的方式將未遭金屬布蓋的光阻部份拔起，完成金屬電極的圖案。 
　　半導(dǎo)體制程常用的正型光阻劑，在光學(xué)曝光方式下，光阻劑上層接受能量較下層光阻高，使得正型光阻劑成像大部份圖形為上窄下寬，無法經(jīng)一次曝光方式即得到Overhang的圖形，而負(fù)型光阻劑的成像恰好與正型光阻劑圖像相反，所以負(fù)型光阻劑是lift-off制程的佳選擇。